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旋转涂覆仪本型号匀胶机采用全铝合金腔体，外观美观坚固；腔体上盖则采用360°可视的有机玻璃设计，便于客户使用过...
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感应炉感应炉CY-IVΦ300-15KW-SS是一款顶部带有真空吸铸装置的15KW感应加热/熔化系统。这种...
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1700℃管式炉1700℃管式炉采用高质量硅钼棒作为加热元件，加热温度可高达1700℃，炉管管径为50mm，采用高纯...
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全自动匀胶机旋涂仪旋涂仪是一种实验室设备，主要用于制备薄膜材料，其应用范围包括制备太阳能电池，制备金属、半导体、氧化物...
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桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶...磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设...
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桌面型不锈钢腔体热蒸发镀膜...热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需...
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分体式高真空双靶磁控溅射镀...双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备...
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桌面型单靶直流磁控溅射镀膜...单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室S...
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1800度1Kg真空感应熔...1Kg真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用*广的设备之一。事实证明：宇航、导弹、火箭、原子能设备和电子...
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磁控溅射镀膜仪
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多功能粉体包覆磁控镀...该设备主要?于粉体材料、颗粒材料的包覆制备（磁控溅射镀膜、CVD、PECVD镀膜）及热处理等，?于改善粉体或颗粒的表?性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐腐蚀性等新功能。
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四探针薄膜厚度测试仪四探针测试仪用于半导体、薄膜、导电涂层等材料的电学性能测试。四探针薄膜厚度测试仪核心作用是消除接触电阻和引线电阻的影响，从而获得更准确的测量结果
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旋转粉末磁控溅射镀膜...旋转粉末磁控溅射镀膜仪主要用于粉体材料、颗粒材料的包覆制备,用于改善粉体或颗粒的表面性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐腐蚀性等新功能。
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桌面型双靶磁控溅射镀...本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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热蒸发镀膜仪
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桌面型三源蒸发镀膜仪热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出
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高真空三源热蒸发镀膜...三源高真空蒸发镀膜仪应用领域：金属和介电膜 ，薄膜传感器的制造 ，光学元件 ，纳米与微电子 ，太阳能电池等
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桌面型有机源蒸发镀膜...热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面，并在那里凝聚形核生长成固相薄膜
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桌面型不锈钢腔体热蒸...热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面，并在那里凝聚形核生长成固相薄膜
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高温熔炼炉
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浇筑坩埚升降式感应加...浇筑坩埚升降式感应加热炉是一种利用电磁感应加热的工业炉，主要用于金属熔炼和铸造。其核心特点是坩埚可升降，便于金属熔炼后的浇筑操作
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非自耗型高真空电弧炉超高温大容量非自耗型高真空电弧炉是我公司根据科研单位实验要求精心研发设计的一款主要用于：熔炼难熔金属及合金，可进行冶炼、提纯、脱氧、除杂等。特别适合高校及科研院所进行新材料的真空冶炼或小批量制备
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2000℃15kw真...真空感应熔炼炉功能**、熔炼快速、使用方便、节能环保，非常适合实验室进行小剂量的金属样品研究
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1800度1Kg真空...1Kg真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用*广的设备之一。事实证明：宇航、导弹、火箭、原子能设备和电子工业所需要的合金和特殊钢
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等离子镀膜仪
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换位自转等离子镀膜仪本型号等离子溅射仪，采用二级溅射方式，广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验，本设备配备换位自转式样品台，用户可以在触控屏上实现一键换位，样品台可在两个靶位自由切换，本设备体积小巧造型美观功能强大，是实验室镀膜试验的*佳选择。
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三靶等离子溅射镀膜仪...本型号小型等离子溅射仪，采用二级溅射方式，广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺，镀膜过程中无高温，不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台，能够有效的提升镀膜的均匀性。（本设备配有旋转加热样品台，可以提升镀膜的均匀性和薄膜的附着力）该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。设备体积小巧造型美观，是实验室镀膜试验的*佳选择。
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三靶等离子溅射镀膜仪...本型号小型等离子溅射仪，采用二级溅射方式，广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺，镀膜过程中无高温，不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台，能够有效的提升镀膜的均匀性。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。设备体积小巧造型美观，是实验室镀膜试验的*佳选择。
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三靶等离子溅射镀膜仪...本型号小型等离子溅射仪，采用二级溅射方式，广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺，镀膜过程中无高温，不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台，能够有效的提升镀膜的均匀性。（本设备配有旋转样品台，可以提升镀膜的均匀性）该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统，全部触摸屏操作，便于学习使用。设备体积小巧造型美观，是实验室镀膜试验的*佳选择。
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可编程匀胶机
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全自动匀胶机旋涂仪全自动匀胶机旋涂仪是一种基于离心力原理的精密涂覆设备，通过程序化控制基片旋转速度、加速度和时间，实现液体材料（如光刻胶、PDMS胶等）在基片表面的均匀分布，形成高质量薄膜或涂层
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光刻胶烤胶机光刻胶烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中，主要用于光刻胶的烘烤和固化，确保图案转移的**性和工艺稳定性
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8英寸晶圆烤胶机8英寸晶圆烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中，主要用于光刻胶的烘烤和固化，确保图案转移的**性和工艺稳定性
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12英寸聚四氟腔体防...本产品为旋涂仪也称匀胶机，是利用高速旋转产生的离心力来涂覆膜料的设备。本型号采用工业级大功率伺服电机，可实现更好的稳定性和均匀性
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涂布机
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桌面平板式涂布机桌面平板式涂布机广泛用于各种高温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜;能够适应未来高温条件下成膜的科学技术的发展
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卷绕型狭缝涂布机全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度，从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的
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1000mm真空加热...涂布机是一种广泛应用于制造业中的机器设备，主要用于薄膜、纸张、布料等材料的表面涂布工艺生产
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间歇式锂电池涂布机间歇式锂电池涂布机本着方便研究者使用，同时满足涂布精度和一致性无异于生产的要求设计，烘干效果优异，是锂离子电池、超级电容、镍电池以及其他二次电池研发的理想之选
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磁控溅射镀膜仪的简介
磁控溅射镀膜仪的简介磁控溅射镀膜仪是一种**的表面镀膜装备，其能够通过...[详情]
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